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德國BUSCH廢氣處理系統(tǒng)
普旭真空為半導體、LCD及相關行業(yè)提供了應用廣泛的新一代廢氣處理系統(tǒng)。高效的廢氣處理技術提供凈化到閾限值以下的氣體，同時滿足現(xiàn)有的和發(fā)展中的要求。
產(chǎn)品型號
|
Technology |
Model |
Capacity（SLM） |
Applications |
Gas |
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Flameless Catalytic （AFC） |
AFC 0500A |
500 |
PE-CVD, HDP-CVD, ALD(NF3), AMOLED 6G CVD |
Flammable gases，water-soluble gases |
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AFC 2000A |
2000 |
AMOLED 6G CVD |
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Wet-Plasma-Wet（APW） |
APW 0500A |
500 |
etch for PFCs |
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Burn-Wet （ABW) |
ABW 0500A |
500 |
CVD,etch for PFCs |
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Thermal-Wet （ATW) |
ATW 0500A |
500 |
ALD,CVD,DIEF |
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ATW 1000A |
1000 |
ALD,CVD,DIFF,LCD |
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ATW 3500A |
3500 |
MO-CVD,EPI, LCD(7G) |
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|
ATW 4000A |
4000 |
MO-CVD,EPI, LCD(>8G) |
||
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Wet(AWE) |
AWE 0500A |
500 |
metal etch |
water-soluble gases |
|
AWE 0500AE |
500 |
EPI(DCS,TCS) |
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Semi-Dry (ASD) |
ASD 0800A |
800 |
etch for cost-saving |
無焰催化處理技術（AFC）
AFC是結合了無焰催化熱氧化和濕法處理技術的高溫催化劑系統(tǒng)。用于 集成到高效單一系統(tǒng)中，旨在減少易燃，水溶性氣體并使NF3可容納高達3000SLM的高氣流。
技術特點：
??在半導體應用和AMOLED流程中（使用大量生成氣體和NF3的粉末）非常適合CVD工藝（使用NF3作為吹掃氣體）。
??金屬蝕刻應用的上佳解決方案。
??由于電加熱器和廢氣反應熱，催化劑區(qū)域始終保持高溫，而沒有燃燒額外的燃料（LNG）。
??減少NOx生成
??粉末和水溶性氣體被捕獲在多級潤濕區(qū)中
??降低了運行成本
??易于維護和濾芯更換
??觸摸屏顯示
濕法-等離子-濕法處理技術（APW）
APW是一個集成于單一系統(tǒng)的濕法-等離子-濕法處理技術的組合，是氧化物和多晶硅蝕刻工藝應用的理想選擇。
技術特點：
??新濕法等離子分離設計
??耐用的反應堆等離子炬和電源設計
??具有高氣體DRE（％）的穩(wěn)定性能
??在廢氣進入等離子反應器之前，先將副產(chǎn)物和水溶性氣體進行預濕區(qū)去除
??有效減少CF4，C2F6，SF6等PFCs
??核心零件的使用壽命長和維護周期
??易于清潔和預防性維護
??觸摸屏顯示
燃燒-濕法處理（ABW）
ABW是集成于單一系統(tǒng)中燃燒和濕法處理技術的組合，旨在有效減少PFCs，是CVD和蝕刻工藝應用的理想選擇。
技術特點：
??新快速燃燒濕室分離設計
??多個**聯(lián)鎖
??燃燒室?guī)в兴浔跈C制的湍流火焰
??燃燒過程中可能產(chǎn)生的粉末和水溶性氣體被捕獲在多級潤濕區(qū)
??有效減少CF4，C2F6，SF6等PFCs
??性能穩(wěn)定
??運行成本低
??易于清潔和預防性維護
??觸摸屏顯示
熱式-濕法處理技術（ATW）
技術特點：
ATW將電熱和濕法處理技術結合在一個系統(tǒng)中，該系統(tǒng)旨在容納高達4000 SLM的總氣流，是重粉生成和腐蝕性應用的理想選擇。
??新快速熱濕室分離設計
??多個**聯(lián)鎖
??兩種減排方法的組合，即熱濕法（通過易燃和發(fā)火性氣體的無焰熱氧化改變工藝氣體的化學性質）和水溶解（對于水溶性氣體）
??易于清潔和預防性維護
??觸摸屏顯示
濕法處理技術（AWE）
技術特點：
AWE濕式洗滌器是適應高H2和金屬粉末生成應用的理想選擇。
??金屬蝕刻應用的上佳解決方案
??極高的**性和正常運行時間
??四個獨立的反應室，配備智能入口防止堵塞功能和強大的文丘里管裝置
??內(nèi)置水循環(huán)系統(tǒng)
??降低了運營成本
??觸摸屏顯示
